2022山東師范大學光學,光學工程,物理學考研調劑信息：主要研究方向：表面離激元與微納光子學，微納結構制備技術，納米材料的光學性質。在半導體、光學AR/VR方向就業前景廣闊。

導師介紹：
http://www.physics.sdnu.edu.cn/info/1172/6657.htm

課題組所在的光場調控及應用中心位于山東師范大學文淵樓D區，配備咖啡廳等休閑區域，辦公區域開闊。

實驗室設備齊全，日常操作各種高精尖微納制備設備，培養科研動手和解決問題的能力，尤其適合喜愛挑戰自己的同學。

（1）物理學學術型：英語一，量子力學，普物
或者（2）光學工程：初試專業課為數學一（學術）、數學二（專業）、光學。復試科目統一為模擬電路。

平常需要在超凈室內做微納米制備(半導體集成工藝，電子束曝光，等)或者光學測試(涉及顯微光譜、飛秒激光等)。
需要較強的動手能力，吃苦耐勞，肯鉆研學術。


郵件標題格式：本科畢業學校 + 本科專業 + 英語一xx分 + 數學一xx分
附材料：詳細簡歷+本科成績單，不要任何壓縮包

本科主干課程包含物理光學、半導體物理與器件、固體物理、電磁場理論或相關課程至少一門；英語cet-6, 單片機、fpga、arm等開發經驗，或其他實驗室科研經歷


實驗室設備介紹：http://www.gctk.sdnu.edu.cn/yqsb.htm

電子束曝光系統
品牌及型號：德國Raith Voyager (http://www.raithchina.com/products/voyager.html)

        50kV電子束曝光系統（electron beam lithography）是用電子束照射光刻膠，經顯影后在光刻膠中產生圖形的一種微納加工技術，曝光精度達到納米量級，具有超高分辨率，并且實現高速曝光的同時系統良好的穩定性可以保證大面積均勻曝光，支持周期結構無寫場拼接的曝光模式。



電子束蒸發鍍膜系統
品牌及型號：美國Detech公司DE500C (http://deproducts.com/products/id-14.html)

        電子束蒸發鍍膜系統是一種適合于前沿研究的薄膜制備技術，在真空條件下電子槍燈絲加熱后發射熱電子，被加速陽極加速，獲得很大的動能并且準確轟擊坩堝內靶材，使靶材融化進而蒸鍍在基底上形成薄膜。電子束蒸發源的能量可高度集中，使鍍膜材料局部達到高溫而蒸發。通過調節電子束的功率，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發速率，特別是有利于高熔點以及高純金屬和化合物材料。廣泛應用于物理，生物，化學，材料以及電子等領域。



電感耦合等離子體增強反應離子刻蝕系統
品牌及型號：牛津儀器PlasmaPro 80 Cobra (https://plasma.oxinst.cn/products/icp-etching/80icp)

        系統通入反應氣體使用電感耦合形成的等離子體輝光放電將氣體分解，產生的具有強化學活性的等離子體在電場加速作用下移動到樣品表面，對樣品表面進行化學反應生成揮發氣體，又有一定的物理刻蝕作用，該設備通過優化的電極冷卻技術和出色的襯底溫度控制來實現高度穩定的工藝結果。廣泛應用于III-V族材料刻蝕工藝，二氧化硅和石英刻蝕，硅 Bosch和超低溫刻蝕工藝，用于失效分析的干法刻蝕解剖工藝，可處理封裝好的芯片、 裸晶片以及200mm晶圓等。



飛秒激光系統
       采用Spectra-Physics公司的Solstice Ace系統，其繼承了無需調整的安裝硬件，單獨的模塊化組件，能夠在10°C的溫度范圍內運行。Solstice Ace使用無調整的光學支架，可以保持穩定性和性能。Solstice Ace 在1kHz時提供＞7W的功率，在5kHz時提供＞8W的功率，在10kHz時提供＞7W的功率，脈沖寬度在小于35fs至小于120fs之間，光束質量優異。



拉曼成像系統
       采用WITec公司的300R系統，當使用共聚焦顯微鏡結合光譜儀在每個測量點收集拉曼光譜或熒光光譜時，可以生成拉曼圖像或者熒光圖像，使樣品化合物的分布可視化。由于WITec拉曼系統的高度一致性，還可以生成體積掃描和3D圖像。